2010年7月21日，美国国际贸易委员会（ITC）投票决定对部分以先进微影制程技术制成的半导体产品及其同类产品（certain semiconductor products made by advanced lithography techniques and products containing same）启动337调查。涉案产品主要用于半导体设备的制程微缩。

2010年6月23日，美国半导体公司STC.UNM向美国ITC提出申请，指控美国进口及在美国市场销售的部分以先进微影制程技术制成的半导体产品及其同类产品侵犯了其专利权，要求启动337调查，并发布排除令和禁止令。

美国ITC最终确定台湾半导体制造公司和韩国三星电子公司作为本案的强制应诉方。